Pulvis Tantali Nano 99.9% Altae Puritatis / Nanoparticulis Tantali / Nanopulvis Tantali
Parametri Producti
Nomen Producti | Pulvis Tantali |
Nota | HSG |
Modellum | HSG-07 |
Materia | Tantalum |
Puritas | 99.9%-99.99% |
Color | Cinereus |
Forma | Pulvis |
Personae | Tantalum est metallum argenteum, quod in forma pura molle est. Metallum robustum et ductile est, et temperaturis infra 150°C (302°F), hoc metallum satis immune est incursionibus chemicis. Notum est corrosioni resistere, quia pelliculam oxidi in superficie sua ostendit. |
Applicatio | Adhibitum ut additivum in mixturis specialibus metallorum ferreorum et non ferreorum. Vel ad industriam electronicam et investigationem scientificam atque experimentationem adhibetur. |
Minimum Quotae Money (MOQ) | 50 chiliogrammata |
Sarcina | Sacculi vacui in charta aluminio facta |
Depositorium | sub condicione sicca et frigida |
Compositio Chemica
Nomen: Pulvis Tantali | Specificatio:* | ||
Chemica: % | MAGNITUDO: 40-400 mesh, micron | ||
Ta | 99.9% minimum | C | 0.001% |
Si | 0.0005% | S | <0.001% |
P | <0.003% | * | * |
Descriptio
Tantalum est unum ex rarissimis elementis in terra.
Hoc metallum colore platini griseo densitatem 16.6 g/cm3 habet, quae duplo densior est quam chalybs, et punctum liquefactionis 2996°C, quartum omnium metallorum altum existimans. Interea, valde ductile est ad altas temperaturas, durissimum, et excellentes proprietates thermicas et electricas conductorias habet. Pulvis tantali in duas species secundum applicationem dividitur: pulvis tantali ad metallurgiam pulveris et pulvis tantali ad condensatorem. Pulvis metallurgicus tantali a UMM productus granis praesertim minutis insignitur et facile in virgam, vectem, laminam, laminam, scopum sputtering tantali, et cetera, una cum magna puritate, formari potest, et omnibus requisitis emptorum omnino satisfacit.
Tabula II Variationes Permissae Diametri pro Virgis Tantali
Diameter, pollices (mm) | Tolerantia, +/- pollice (mm) |
0.125~0.187 excl (3.175~4.750) | 0.003 (0.076) |
0.187~0.375 excl (4.750~9.525) | 0.004 (0.102) |
0.375~0.500 excl (9.525~12.70) | 0.005 (0.127) |
0.500~0.625 excl (12.70~15.88) | 0.007 (0.178) |
0.625~0.750 excl (15.88~19.05) | 0.008 (0.203) |
0.750~1.000 excl (19.05~25.40) | 0.010 (0.254) |
1.000~1.500 excl (25.40~38.10) | 0.015 (0.381) |
1.500~2.000 excl (38.10~50.80) | 0.020 (0.508) |
2.000~2.500 sine sumptibus (50.80~63.50) | 0.030 (0.762) |
Applicatio
Pulvis metallurgicus tantali imprimis ad producendum scopum tantali ad pulverem cathodicum cathodicum producendum adhibetur, tertia maxima applicatio pulveris tantali, post condensatores et supermixturas, quae imprimis in applicationibus semiconductorum ad celerem processum datorum et ad solutiones repositionis in industria electronicarum consumptoriarum adhibetur.
Pulvis metallurgicae tantali etiam ad transformandum in virgas, vectes, filum, laminas, et laminas tantali adhibetur.
Pulvis tantali, propter malleabilitatem, resistentiam temperaturae altae et resistentiam corrosioni, late in industria chemica, electronica, militari, mechanica et aëronautica adhibetur, ad fabricanda elementa electronica, materias resistentes calori, apparatum resistentem corrosioni, catalysatores, matrices, vitrum opticum provectum, et cetera. Pulvis tantali etiam in examinationibus medicis, materiis chirurgicis, et agentibus contrastantibus adhibetur.